三氟化氮（NF3），在微電子工業(yè)中是一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，隨著納米技術(shù)和電子工業(yè)的飛速發(fā)展，其需求量也在日益增加。高純?nèi)∟F3）屬于電子特氣，毒性較強(qiáng)，人體直接接觸會(huì)有很大的危險(xiǎn)，這時(shí)，便需要電子特氣柜這樣的特種氣體設(shè)備來保證氣體的純度和使用安全。什么是三氟化氮？三氟化氮（nitrogen trifluoride）化學(xué)式NF?，在常溫下是一種無色、無臭、性質(zhì)穩(wěn)定的氣體，是一種強(qiáng)氧化劑。NF3是低毒性物質(zhì)，但是它能強(qiáng)烈刺激眼睛、皮膚和呼吸道粘膜，腐蝕組織，研究表明：大鼠吸入1000ppm·l小時(shí)未見死亡，但出現(xiàn)高鐵血紅蛋白血癥，當(dāng)吸入10000ppm·l小時(shí)有死亡，在2500ppm時(shí)吸毒后4小時(shí)死亡。要知道在微電子行業(yè)刻蝕工藝中，所使用的NF3是儲存在氣體鋼瓶中的高純度壓縮氣體。三氟化氮的應(yīng)用領(lǐng)域：高純?nèi)∟F3）具有非常優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性（對氧化硅和硅），它在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時(shí)是非常良好的清洗劑。三氟化氮主要用于化學(xué)氣相淀積（CVD）裝置的清洗，同時(shí)在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的運(yùn)用。三氟化氮可以單獨(dú)或與其它氣體組合，用作等離子體工藝的蝕刻氣體，例如，NF3、NF3/Ar、NF3/He用于硅化合物MoSi2的蝕刻；NF3/CCl4、NF3/HCl既用于MoSi2的蝕刻，也用于NbSi2的蝕刻。電子特氣柜的功能作用：電子特氣柜是專為易燃易爆、毒性、腐蝕性等危險(xiǎn)性氣體供應(yīng)而設(shè)計(jì)的特種氣體系統(tǒng)設(shè)備，按類別可分為全自動(dòng)、半自動(dòng)和手動(dòng)操作，有包括自動(dòng)吹掃、自動(dòng)切換以及緊急情況下的自動(dòng)安全切斷（當(dāng)設(shè)定報(bào)警信號被觸發(fā)時(shí)）等基本功能。其中全自動(dòng)電子特氣柜采用PLC為控制主體，以觸摸屏進(jìn)行系統(tǒng)顯示和設(shè)定，配合合理設(shè)計(jì)布局的高純閥件及氣體監(jiān)測泄漏報(bào)警系統(tǒng)等，可保持氣體的安全穩(wěn)定及高純度，保證實(shí)驗(yàn)或生產(chǎn)正常進(jìn)行。綜上，三氟化氮（NF3）是微電子行業(yè)中一種優(yōu)良的等離子刻蝕氣體，是一種對人體有很大危險(xiǎn)性的電子特氣，電子特氣柜的作用是可以保證三氟化氮（NF3）氣體的運(yùn)輸安全、使用安全、氣體的純度和提供連續(xù)穩(wěn)定的氣體壓力。感謝您的閱讀！