CVD（化學氣相沉積法）是傳統(tǒng)的制備薄膜的技術，其中PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ) 是指等離子體增強化學氣相沉積法，有基本溫度低、沉積速率快和成膜質量好等優(yōu)點。PECVD的原理是什么？特氣柜應用在哪？下面就讓深圳沃飛科技的小編來給大家介紹一下吧。

PECVD：是借助微波或射頻等使含有薄膜成分原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜，其中，特氣系統(tǒng)保證了含有薄膜成分原子的氣體的穩(wěn)定輸送和純度要求。

為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用等離子體的活性來促進反應的化學氣相沉積法，因此被稱為等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)。使用PECVD技術，在襯底溫度保持為350℃左右就可以得到的良好SiOx或SiNx薄膜，就是一個很好的例子，可以作為集成電路最后的鈍化保護層，提高集成電路的可靠性。

沉積氮化硅膜(Si3N4)，便是SiNx薄膜的一種，由硅烷和氮反應形成的，而硅烷（SiH4）是一種在室溫下能著火、在空氣或鹵素氣體中能爆炸性燃燒的劇毒性特種氣體，特氣柜的存在就是為了保證硅烷這類氣體的安全使用。

沃飛WOFLY全自動特氣柜（GC）配有PLC面板，配合觸摸屏進行系統(tǒng)顯示和設定，實現(xiàn)設備安全有效的運行；特氣柜的柜體采用防腐蝕涂層，且板材厚底不低于2.5mm，同時配有防爆觀察窗，可以隨時觀察柜內變化；特氣柜的報警偵測警報功能齊全，并在柜門關閉情況下，特氣柜內部都處于負壓狀態(tài)，可第一時間發(fā)現(xiàn)硅烷這類特種氣體的泄漏并阻止泄漏氣體擴散，避免事故的發(fā)生。

沃飛WOFLY全自動特氣柜（GC）擁有SIME 2認證，品質上值得信賴，基本功能有自動吹掃、自動切換以及緊急情況下的自動安全切斷（當設定報警信號被觸發(fā)時），其內部PLC程式設計的安全聯(lián)鎖功能、高純閥件的合理選擇和布局，既滿足了等離子體增強CVD(PECVD)在生產(chǎn)過程中對含有薄膜成分原子的氣體的高純度連續(xù)穩(wěn)定供給的要求，也保證了生產(chǎn)安全和員工人身安全。

PECVD雖然擁有眾多優(yōu)點，但是因科技和經(jīng)濟的限制，還存在設備投資大、生產(chǎn)過程中會產(chǎn)生對人體有害的物質等缺點。以上，就是關于PECVD的簡單介紹和特氣柜在其中的應用，感謝您的閱讀！沃飛科技，專業(yè)從事氣體應用系統(tǒng)工程！